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      200系列光刻機 —— TFT曝光


      SSB225

      SSB245

      SSB260

      SSB200系列投影光刻機采用先進的投影光刻機平臺技術,專用于AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路制造,可應用于2.5代~6代的TFT顯示屏量產線。該系列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,顯著降低用戶使用成本。
         產品特征

      ● 高精度,分辨率可達1.5μm

      ● 支持小Mask,可用6英寸掩模實現12英寸屏幕制造

      ● 具備智能化校準及診斷功能,方便設備參數校調及用戶周期性維護

         主要技術參數

      型號

      分辨率

      套刻精度

      基板尺寸

      SSB225/10

      2μm L/S

      0.6μm

      370mm×470mm
      500mm×500mm

      SSB225/20

      1.5μm L/S

      0.5μm

      370mm×470mm
      500mm×500mm

       SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
       SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
       SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
      1500mm×1850mm
       SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
      1500mm×1850mm

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